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中国工程院院士屠海令:国产化进程加速推进,半导体材料迎黄金窗口期
【大河财立方 记者 史冰倩 文 李博 摄影】10月23日,2025半导体材料产业发展(郑州)大会暨中国电子材料行业协会半导体材料分会年会在郑州举办。中国工程院院士、北京有色金属研究总院名誉院长屠海令出席大会并发表致辞,回顾中国半导体材料产业发展历程,分析当前产业形势,为未来发展指明方向。
回望产业发展历程,屠海令指出,河南在其中写下浓墨重彩的一笔。1966年,我国首个从国外引进全套技术装备的单晶硅企业——洛阳单晶硅厂在洛阳诞生。当时,为响应国家号召、发展电子工业、捍卫国防安全,洛阳单晶硅厂的创业者们克服技术封锁、物资匮乏等困难,开启中国半导体硅材料产业化探索先河。
从1966年洛阳单晶硅厂多晶硅2.4吨、单晶硅1.4吨的设计年产能起步,到2005年洛阳中硅高科技公司年产300吨多晶硅项目打破国外技术垄断,再到如今规划建设的产业宏图,河南在不同历史阶段,均为中国半导体材料发展发挥关键作用,助力我国信息产业摆脱“无米之炊”困境。
值得一提的是,北京有色金属研究总院与洛阳单晶硅厂渊源深厚。在共和国有色金属工业初创时期,该院作为行业重要科研与技术支撑机构,与单晶硅厂等骨干企业在人才培养、技术攻关、工艺优化等方面开展广泛深入合作,共同见证彼此在产业发展中的成长与贡献,这份情谊成为双方共同的宝贵财富。
谈及当前产业形势,屠海令表示,全球半导体产业格局深刻变革,材料作为产业基石,战略地位日益凸显。
在他看来,当前,我国半导体材料产业迎来重要发展期。首先,市场前景广阔,SEMI预测2025年全球半导体材料市场规模将达700亿美元,并持续增长。中国大陆作为全球第二大市场,预计2025年关键电子材料规模将突破1700亿元,同比增长超过20%。其次,国产化进程正加速推进,大尺寸硅材料、砷化镓等领域国产替代迎来“黄金窗口期”,半导体级硅材料国产化率已超过50%,抛光液等材料的国产化率也已突破30%。AI算力、新能源汽车等终端需求,更是为上游材料企业创造了倍数级增长机遇。此外,行业创新活力迸发,以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)为代表的第三代半导体材料正加速应用于新能源汽车、5G通信等领域,有效提升了器件性能与能效。
同时,屠海令也强调,产业发展仍面临挑战,12英寸大硅片、高端光刻胶等核心环节国产化率偏低,全球供应链存在不确定性,核心技术与人才竞争日趋激烈。
面向未来,屠海令提出四点发展方向:一是强化基础研究与前沿布局,既要提升硅基材料品质与成本竞争力,也要在超宽禁带半导体材料、二维材料等前沿方向提前部署;二是深化产业链协同创新,推动材料、设备、工艺紧密协同,构建开放包容的创新生态,鼓励上下游企业联合攻关;三是拥抱绿色与智能化趋势,推进材料生产绿色低碳转型,利用AI大数据加速材料研发与产业化;四是构建坚韧的产业人才链,完善全链条人才培养体系,激发人才创新活力。
责编:陶纪燕 | 审校:张翼鹏 | 审核:李震 | 监审:古筝
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